ຂາຍສົ່ງ FeCoTa Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງບາງໆເຄືອບ Pvd ຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ

ທາດເຫຼັກ Cobalt Tantalum

FeCoTa Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ການເຄືອບ Pvd ແຜ່ນບາງໆ Custom Made ຮູບພາບທີ່ໂດດເດັ່ນ

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ປະເພດ	Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ
ສູດເຄມີ	FeCoTa
ອົງປະກອບ	ທາດເຫຼັກ Cobalt Tantalum
ຄວາມບໍລິສຸດ	99.9%, 99.95%, 99.99%
ຮູບຮ່າງ	ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ
ຂະບວນການຜະລິດ	ການລະລາຍສູນຍາກາດ, PM
ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້	L≤200mm,W≤200mm

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ເປົ້າໝາຍ Iron Cobalt Tantalum ປົກກະຕິແລ້ວມີຢູ່ໃນຮູບວົງມົນ ແລະວັດສະດຸຟິມບາງໆທີ່ສຳຄັນຂອງສື່ບັນທຶກແມ່ເຫຼັກແນວຕັ້ງ. ປະລິມານຫຼາຍຂອງ Tantalum ທີ່ມີຢູ່ໃນໂລຫະປະສົມຈະເຮັດໃຫ້ເກີດການແຍກແລະອະນຸພາກ undissolved. ພວກເຮົາໃຊ້ວິທີການຜະລິດທີ່ເປັນເອກະລັກທີ່ສາມາດຮັບປະກັນຄວາມເປັນເອກະພາບຂອງໂຄງສ້າງຈຸນລະພາກແລະປັບປຸງຄຸນສົມບັດກົນຈັກຂອງວັດສະດຸ.

ຊື່ຜະລິດຕະພັນ		FeCoTa
Fe/wt%		ຍອດເງິນ	ຍອດເງິນ	ຍອດເງິນ
Co/wt%		21.6±0.5	21.9±0.5	20.2±0.5
Ta/wt%		41.1±0.8	39.4±0.8	44.3±0.8
ເນື້ອໃນ impurity ໂລຫະ(ppm)	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
ເນື້ອໃນອາຍແກັສ impurity(ppm)	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດ Sputtering ເປົ້າຫມາຍແລະສາມາດຜະລິດ Iron Cobalt Tantalum Sputtering Materials ຕາມການກໍານົດຂອງລູກຄ້າ. ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.

ທີ່ຜ່ານມາ: FeCo Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ຮູບເງົາບາງໆ Pvd Coating Custom Made

ຕໍ່ໄປ: FeSi Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd Coating Custom Made