CuCr Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd Coating Custom Made

Copper Chromium ເປົ້າຫມາຍ sputtering ໂລຫະປະສົມແມ່ນວັດສະດຸທີ່ອີງໃສ່ Cu ທີ່ມີອົງປະກອບ Chromium ເພີ່ມເຂົ້າໄປໃນມັນ. ມັນມີຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກສູງແລະຄວາມແຂງ, ປະສິດທິພາບໄຟຟ້າແລະຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ. ໂລຫະປະສົມ Cu-Cr ໄດ້ຮັບຄວາມຫລາກຫລາຍຂອງຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ປະຕິບັດອຸປະກອນພາຍໃຕ້ອຸນຫະພູມສູງເນື່ອງຈາກຄຸນລັກສະນະສະເພາະຂອງມັນ: ຄວາມເຫມາະສົມຂອງອຸນຫະພູມສູງ, ການຕໍ່ຕ້ານການຜຸພັງ, ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ແລະເຄື່ອງຈັກ.

ວັດສະດຸທອງແດງ Chromium ມີຄວາມແຂງສູງ, ທົນທານຕໍ່ການສວມໃສ່, ຄວາມຕ້ານທານກັບງໍ, ການຕໍ່ຕ້ານຮອຍແຕກແລະອຸນຫະພູມການປ່ຽນແປງສູງ. ແມ່ນປະເພດຂອງພະລັງງານທົດແທນ. ທີ່ມີຢູ່ໃນ chromium trivalent ບໍ່ເປັນອັນຕະລາຍຕໍ່ສຸຂະພາບຂອງມະນຸດ. ມັນຍັງເປັນອຸປະກອນການນໍາທົ່ວໄປ. Copper Chromium ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຜະລິດຕະພັນເຕັກໂນໂລຢີ Optoelectronic, ເຊັ່ນ: ແຜງສໍາຜັດ, LCD ແລະຈຸລັງແສງຕາເວັນ.

ອຸ​ປະ​ກອນ​ພິ​ເສດ​ທີ່​ອຸ​ດົມ​ສົມ​ບູນ​ເປັນ​ຜູ້​ຜະ​ລິດ Sputtering ເປົ້າ​ຫມາຍ​ສາ​ມາດ​ຜະ​ລິດ​ອຸ​ປະ​ກອນ​ການ Sputtering ທອງ​ແດງ Chromium ຕາມ​ສະ​ເພາະ​ຂອງ​ລູກ​ຄ້າ​. ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.