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AlTa-Sputtertarget mit hochreiner Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Aluminium-Tantal

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Sputtertarget aus Legierung

Chemische Formel

AlTa

Zusammensetzung

Aluminium-Tantal

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L≤200mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

Die Targets werden durch Mischen von Aluminium- und Tantalpulvern oder Vakuumschmelzen und anschließendes Verdichten auf volle Dichte hergestellt. Die so verdichteten Materialien werden optional gesintert und anschließend in die gewünschte Zielform gebracht.

Aluminium-Tantal-Sputtertargets weisen eine hohe Reinheit, eine homogene Mikrostruktur und eine hervorragende Leitfähigkeit auf. Es wird häufig bei der Bildung dünner Filme für die Flachbildschirmindustrie verwendet. Zur Herstellung einer Hochleistungs-Titanlegierung könnte auch Aluminiumtantal zugesetzt werden, um deren Eignung für hohe Temperaturen zu verbessern.

Verunreinigungsgehalt der Al-Ta-Legierung

Zusammensetzung

Inhalt%)

Ta

Fe

Si

C

O

AlTa60

55,0~65,0

≤0,05

≤0,02

≤0,01

≤0,05

AlTa70

65,0~75,0

≤0,05

≤0,02

≤0,01

≤0,05

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Aluminium-Tantal-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen. Unsere Produkte zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften, eine homogene Struktur und eine polierte Oberfläche ohne Ablagerungen, Poren oder Risse aus. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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