Wholesale FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer and Supplier

Tantaliu di ferru cobaltu

FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Descrizione breve:

categuria	Alloy Sputtering Target
Formula chimica	FeCoTa
Cumpusizioni	Tantaliu di ferru cobaltu
Purità	99,9%，99,95%，99,99%
Forma	Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made
Prucessu di pruduzzione	Fusione à vacuum, PM
Taglia dispunibule	L≤200mm，W≤200mm

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Iron Cobalt Tantalum targets sò generalmente dispunibili in forma circular è materiali critichi di film sottili di media di registrazione magnetica verticale. A quantità considerableu di Tantalum presente in l'aliaghju risultatu in a segregazione è prisenti particeddi micca dissolute. Impieghemu un metudu di produzzione unicu chì puderia assicurà l'omogeneità di a microstruttura è migliurà e proprietà meccaniche di i materiali.

Nome di u produttu		FeCoTa
Fe/wt%		Balance	Balance	Balance
Co/Wt%		21,6 ± 0,5	21,9 ± 0,5	20,2 ± 0,5
Ta/wt%		41,1 ± 0,8	39,4 ± 0,8	44,3 ± 0,8
Contenutu di impurità di metalli（ppm)	Ni	≤ 100	≤ 100	≤ 100
	Al	≤ 300	≤ 300	≤ 300
	Si	≤ 200	≤ 200	≤ 200
Contenutu di impurità di gas（ppm)	C	≤ 200	≤ 200	≤ 200
	N	≤ 100	≤ 100	≤ 100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali Sputtering Iron Cobalt Tantalum secondu e specificazioni di i Clienti. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.

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