CoCrTa Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made

Kobalt Chrom Tantal Sputterziel gëtt duerch Gossprozess a Vakuum Schmelzen hiergestallt. a ginn dann an déi gewënscht Zilform geformt. Et huet héich Rengheet an homogen Mikrostruktur. Co-Cr-Ta war fréier dat kritescht Material fir magnetesch Opnam fir seng magnetesch Eegeschaften: héich Coercivitéit, niddereg Kaméidieigenschaften an exzellente Quadratitéit.

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Kobalt Chrom Tantal Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren. Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.