Bejgħ bl-ingrossa TaNb Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Fabbrikant u Fornitur magħmul apposta

Tantalu Niobju

TaNb Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Immaġni Dehru Magħmula apposta

Deskrizzjoni qasira:

Kategorija	Mira Sputtering Liga
Formula Kimika	TaNb
Kompożizzjoni	Tantalu Niobju
Purità	99.9%，99.95%，99.99%
Forma	Pjanċi，Miri tal-Kolonna，katodi tal-ark，Magħmul apposta
Proċess ta' Produzzjoni	Tidwib bil-vakwu
Daqs Disponibbli	L≤2000mm, W≤200mm

Ibgħat email lilna

Dettall tal-Prodott

Tags tal-Prodott

Tantalum Niobium Sputtering Target Deskrizzjoni

Tantalum Niobium sputtering mira hija fabbrikata permezz ta 'tidwib bil-vakwu ta' Tantalum u Niobium. Dawn it-tnejn huma punt tat-tidwib għoli (Tantalu 2996℃, Niobju 2468℃), punt għoli tat-togħlija (Tantalu 5427℃, Nijobju 5127℃) metalli rari. Il-liga tan-nijobju tat-tantalu għandha l-apparenza simili ma 'l-azzar, għandha tleqqija griż tal-fidda (filwaqt li t-trab huwa griż skur). Għandu ħafna proprjetajiet favorevoli: reżistenza għall-korrużjoni, superkonduttività, u saħħa fit-temperatura għolja. Allura kwalunkwe applikazzjonijiet jew industriji jistgħu jibbenefikaw mill-użu ta 'ligi tan-Nijobju tat-Tantalju, bħal elettronika, ħġieġ u ottika, aerospazjali, apparat mediku, superkonduttività u azzar.

Tantalu u Nijobju kienu kruċjali fl-industrija spazjali għal snin minħabba s-saħħa impressjonanti tagħhom, reżistenza għall-korrużjoni u karatteristiċi attraenti oħra, u ntużaw f'ħafna komponenti importanti bħal magni rokit u żennuni.

Tantalum Niobium Sputtering Target Packaging

Il-mira tagħna ta 'sputter TaNb hija ttikkettata u ttikkettjata b'mod ċar esterna biex tiżgura identifikazzjoni effiċjenti u kontroll tal-kwalità. Tingħata attenzjoni kbira biex tiġi evitata kwalunkwe ħsara li tista 'tiġi kkawżata waqt il-ħażna jew it-trasport.

Ikseb Kuntatt

Il-miri ta 'sputtering Tantalum Niobium ta' RSM huma ta 'purità ultra-għolja u uniformi. Huma disponibbli f'diversi forom, puritajiet, daqsijiet u prezzijiet. Aħna jispeċjalizzaw fil-produzzjoni ta 'materjali ta' kisi ta 'film irqiq ta' purità għolja b'rendiment eċċellenti kif ukoll l-ogħla densità possibbli u l-iżgħar daqsijiet ta 'qamħ medju possibbli għall-użu fil-kisi tal-moffa, dekorazzjoni, partijiet tal-karozzi, ħġieġ low-E, ċirkwit integrat semi-konduttur, film irqiq. reżistenza, wiri grafiku, aerospazjali, reġistrazzjoni manjetika, touch screen, batterija solari tal-film irqiq u fwar fiżiku ieħor applikazzjonijiet ta' depożizzjoni (PVD). Jekk jogħġbok ibgħatilna inkjesta għall-ipprezzar attwali fuq miri ta 'sputtering u materjali oħra ta' depożizzjoni mhux elenkati.

Preċedenti: NbTi Sputtering Mira Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Magħmul apposta

Li jmiss: WRe Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Magħmul apposta