ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಪೀಸಸ್

ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ WSi2 ಅನ್ನು ಮೈಕ್ರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಶಾಕ್ ವಸ್ತುವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಪಾಲಿಸಿಲಿಕಾನ್ ತಂತಿಗಳ ಮೇಲೆ ಶಂಟಿಂಗ್, ಆಂಟಿ-ಆಕ್ಸಿಡೇಶನ್ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಪ್ರತಿರೋಧ ತಂತಿಯ ಲೇಪನ. ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಅನ್ನು ಮೈಕ್ರೊಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಸಂಪರ್ಕ ವಸ್ತುವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು 60-80μΩcm ಪ್ರತಿರೋಧಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಇದು 1000 ° C ನಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಇದನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅದರ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಮತ್ತು ಸಿಗ್ನಲ್ ವೇಗವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಪಾಲಿಸಿಲಿಕಾನ್ ರೇಖೆಗಳಿಗೆ ಷಂಟ್ ಆಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಪದರವನ್ನು ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆಯ ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಬಹುದು, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ. ಮಾನೋಸಿಲೇನ್ ಅಥವಾ ಡೈಕ್ಲೋರೋಸಿಲೇನ್ ಮತ್ತು ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಹೆಕ್ಸಾಫ್ಲೋರೈಡ್ ಅನ್ನು ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳ ಅನಿಲವಾಗಿ ಬಳಸಿ. ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸ್ಟೊಚಿಯೊಮೆಟ್ರಿಕ್ ಅಲ್ಲ ಮತ್ತು ಅನೆಲಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ವಾಹಕ ಸ್ಟೊಚಿಯೊಮೆಟ್ರಿಕ್ ರೂಪಕ್ಕೆ ಪರಿವರ್ತಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿದೆ.

ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಹಿಂದಿನ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದು. ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಅನ್ನು ಸಿಲಿಕಾನ್ ಮತ್ತು ಇತರ ಲೋಹಗಳ ನಡುವೆ ತಡೆಗೋಡೆಯಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಮೈಕ್ರೊಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಮೆಕಾನಿಕಲ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಲ್ಲಿ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಕೂಡ ಬಹಳ ಮೌಲ್ಯಯುತವಾಗಿದೆ, ಅವುಗಳಲ್ಲಿ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಅನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಮೈಕ್ರೊ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಆಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಉದ್ದೇಶಕ್ಕಾಗಿ, ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ-ಕೆತ್ತನೆ ಮಾಡಬಹುದು, ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಬಳಸಿ.

ರಿಚ್ ಸ್ಪೆಷಲ್ ಮೆಟೀರಿಯಲ್ಸ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಟಾರ್ಗೆಟ್ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಪರಿಣತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಸಿಲಿಸೈಡ್ ಅನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದುತುಂಡುಗಳುಗ್ರಾಹಕರ ವಿಶೇಷಣಗಳ ಪ್ರಕಾರ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಮಾಹಿತಿಗಾಗಿ, ದಯವಿಟ್ಟು ನಮ್ಮನ್ನು ಸಂಪರ್ಕಿಸಿ.