საბითუმო MoCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made მწარმოებელი და მიმწოდებელი

მოლიბდენის სპილენძი

MoCu Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული გამორჩეული სურათი

მოკლე აღწერა:

კატეგორია	დისკები sputtering სამიზნე
ქიმიური ფორმულა	MoCu
კომპოზიცია	მოლიბდენის სპილენძი
სიწმინდე	99.9%, 99.95%, 99.99%
ფორმა	ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული
წარმოების პროცესი	PM
ხელმისაწვდომი ზომა	L≤200mm, W≤200mm

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

მოლიბდენის სპილენძის დაფრქვევის სამიზნე მზადდება ინფილტრაციული აგლომერაციის გზით: მოლიბდენის ფხვნილები აგლომერდებათ და წარმოიქმნება ნახევრად მზა პროდუქტებში, კომბინირებული მიკროტალღური ღუმელის დახმარებით წყალხსნარის სტრატეგიასთან. მოლიბდენის სპილენძის შენადნობას აქვს გამორჩეული ფიზიკური და მექანიკური თვისებები: დამაკმაყოფილებელი ელექტრული და თბოგამტარობა, თერმული გაფართოების დაბალი და რეგულირებადი კოეფიციენტი, აცვიათ წინააღმდეგობა და მაღალი ტემპერატურის სიმტკიცე.

კომპოზიციები (%)	Cu	Mo	მინარევები (%)
MoCu10	10±2	ბალანსი	≤0.1
MoCu15	15±3	ბალანსი	≤0.1
MoCu20	20±3	ბალანსი	≤0.1
MoCu25	25±3	ბალანსი	≤0.1
MoCu40	40±5	ბალანსი	≤0.1

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს მოლიბდენის სპილენძის თხრილის მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების შესაბამისად. დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.

წინა: MoNi Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული

შემდეგი: NbTi Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი Custom Made