Մեծածախ TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար

Տիտանի սիլիցիում

TiSi Sputtering Target Բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն.

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	TiSi
Կազմը	Տիտանի սիլիցիում
Մաքրություն	99,7%, 99,9%, 99,95%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	Վակուումային հալեցում, PM
Հասանելի չափ	L≤2000 մմ, W≤200 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Տեսանյութ

Titanium Silicon Sputtering Թիրախի նկարագրություն

Սուպերկոշտ նիտրիդային ծածկույթ կարող է ձևավորվել, երբ տիտան սիլիցիումը զուգակցվում է ազոտի գազի հետ նստեցման գործընթացում: Ներկա սիլիցիումի տարրը ապահովում է բարձր օքսիդացման դիմադրություն, մինչդեռ տիտանը՝ կարծրություն: Այն կարող է ցուցադրել գերազանց մաշվածության դիմադրություն նույնիսկ շատ բարձր ջերմաստիճանի դեպքում: TiSiN ծածկույթով դրված կտրող գործիքներն իդեալական են արագ և կոշտ ֆրեզման համար, հատկապես չոր կտրման ժամանակ, և կարող են գործ ունենալ որոշ գերհամաձուլվածքների հետ, ինչպիսիք են նիկելի և տիտանի հիմքի համաձուլվածքները:

Մեր բնորոշ TiSi թիրախները և դրանց հատկությունները

	Ti-15Siժամը%	Ti-20Siժամը%	Ti-25Siժամը%	Ti-30Siժամը%
Մաքրություն (%)	99.9	99.9	99.9	99.9
Խտություն(գ/սմ³）	4.4	4.35	4.3	4.25
Gանձրեւ Չափը(մկմ)	200/100	100	100	100
Գործընթացը	VAR/HIP	ՀԻՊ	ՀԻՊ	ՀԻՊ

Մեր ընկերությունն ունի կաղապար կտրող գործիքների համար ցայտող թիրախների արտադրության բազմամյա փորձ: Ti-15Si at%, արտադրված վակուումային հալման միջոցով, ունի միատարր կառուցվածք, բարձր մաքրություն և ցածր գազի պարունակություն: Բացի այդ, մենք մատակարարում ենք նաև Ti-15Si ժամը%, Ti-20Si ժամը% և Ti-25Si%՝ արտադրված էլեկտրամետալուրգիայի միջոցով: Մեր TiSi թիրախներն ունեն գերազանց մեխանիկական հատկություններ, ինչը նրանց դարձնում է անընդունելի ճաքերի և կառուցվածքային խափանումների համար:

Titanium Silicon Sputtering Target Packaging

Մեր Titanium Silicon sputter թիրախը հստակ պիտակավորված է և դրսից պիտակավորված՝ արդյունավետ նույնականացում և որակի վերահսկում ապահովելու համար: Մեծ ուշադրություն է դարձվում՝ խուսափելու ցանկացած վնասից, որը կարող է առաջանալ պահեստավորման կամ տեղափոխման ընթացքում:

Ստացեք կապ

RSM-ի Titanium Silicon sputtering թիրախները չափազանց բարձր մաքրության և միատեսակ են: Դրանք հասանելի են տարբեր ձևերով, մաքրությամբ, չափերով և գներով: Մենք մասնագիտացած ենք բարձր մաքրության բարակ թաղանթապատման նյութերի արտադրության մեջ՝ գերազանց կատարողականությամբ, ինչպես նաև հնարավոր ամենաբարձր խտությամբ և հնարավոր ամենափոքր միջին չափսերով՝ կաղապարի ծածկույթում օգտագործելու համար, դեկորացիա, ավտոմեքենայի մասեր, ցածր E ապակի, կիսահաղորդչային ինտեգրալ միացում, բարակ թաղանթ: դիմադրություն, գրաֆիկական էկրան, օդատիեզերք, մագնիսական ձայնագրում, հպում էկրան, բարակ թաղանթով արևային մարտկոց և այլ ֆիզիկական գոլորշիների նստեցում (PVD): Խնդրում ենք մեզ հարցում ուղարկել ցայտող թիրախների և այլ նստվածքային նյութերի ընթացիկ գների վերաբերյալ, որոնք նշված չեն: