Selamat datang ke laman web kami!
Berita
-
Teknologi penyediaan dan penggunaan sasaran tungsten ketulenan tinggi
Disebabkan oleh kestabilan suhu yang tinggi, rintangan penghijrahan elektron yang tinggi dan pekali pelepasan elektron yang tinggi bagi aloi tungsten dan tungsten refraktori, sasaran aloi tungsten dan tungsten ketulenan tinggi digunakan terutamanya untuk pembuatan elektrod pintu, pendawaian sambungan, penghalang resapan ...Baca lagi -
Sasaran sputtering aloi entropi tinggi
Aloi entropi tinggi (HEA) ialah sejenis aloi logam baharu yang dibangunkan sejak beberapa tahun kebelakangan ini. Komposisinya terdiri daripada lima atau lebih unsur logam. HEA ialah subset aloi logam berbilang primer (MPEA), iaitu aloi logam yang mengandungi dua atau lebih unsur utama. Seperti MPEA, HEA terkenal dengan kehebatannya...Baca lagi -
Sasaran sputtering – sasaran kromium nikel
Sasaran ialah bahan asas utama untuk penyediaan filem nipis. Pada masa ini, kaedah penyediaan dan pemprosesan sasaran yang biasa digunakan terutamanya termasuk teknologi metalurgi serbuk dan teknologi peleburan aloi tradisional, sementara kami menggunakan peleburan vakum yang lebih teknikal dan agak baru...Baca lagi -
Sasaran sputtering Ni-Cr-Al-Y
Sebagai jenis bahan aloi baharu, aloi nikel-kromium-aluminium-yttrium telah digunakan secara meluas sebagai bahan salutan pada permukaan bahagian hujung panas seperti penerbangan dan aeroangkasa, bilah turbin gas kereta dan kapal, cengkerang turbin tekanan tinggi, dsb. kerana rintangan haba yang baik, c...Baca lagi -
Pengenalan dan penggunaan sasaran Karbon(pirolitik grafit）).
Sasaran grafit dibahagikan kepada grafit isostatik dan grafit pirolitik. Editor RSM akan memperkenalkan grafit pirolitik secara terperinci. Grafit pirolitik ialah sejenis bahan karbon baharu. Ia adalah karbon pirolitik dengan orientasi kristal tinggi yang dimendapkan oleh wap kimia pada ...Baca lagi -
Sasaran Sputtering Tungsten Carbide
Tungsten karbida (formula kimia: WC) ialah sebatian kimia (tepatnya, karbida) yang mengandungi bahagian atom tungsten dan karbon yang sama. Dalam bentuk yang paling asas, tungsten karbida adalah serbuk kelabu halus, tetapi ia boleh ditekan dan dibentuk menjadi bentuk untuk digunakan dalam jentera perindustrian, alat pemotong...Baca lagi -
Pengenalan dan Penggunaan Sasaran Percikan Besi
Baru-baru ini, pelanggan ingin mengecat produk dengan merah wain. Dia bertanya kepada juruteknik dari RSM mengenai sasaran percikan besi tulen. Sekarang mari kita berkongsi sedikit pengetahuan tentang sasaran percikan besi dengan anda. Sasaran sputtering besi ialah sasaran pepejal logam yang terdiri daripada logam besi ketulenan tinggi. besi...Baca lagi -
Penggunaan AZO Sputtering Target
Sasaran sputtering AZO juga dirujuk sebagai sasaran sputtering zink oksida doped aluminium. Zink oksida berdop aluminium ialah oksida pengalir lutsinar. Oksida ini tidak larut dalam air tetapi stabil dari segi haba. Sasaran sputtering AZO biasanya digunakan untuk pemendapan filem nipis. Jadi jenis o...Baca lagi -
Kaedah pembuatan aloi entropi tinggi
Baru-baru ini, ramai pelanggan telah bertanya tentang aloi entropi tinggi. Apakah kaedah pembuatan aloi entropi tinggi? Sekarang mari kita kongsikan dengan anda oleh editor RSM. Kaedah pembuatan aloi entropi tinggi boleh dibahagikan kepada tiga cara utama: pencampuran cecair, campuran pepejal...Baca lagi -
Pemakaian Sasaran Sputtering Cip Semikonduktor
Rich Special Material Co., Ltd. boleh menghasilkan sasaran sputtering aluminium ketulenan tinggi, sasaran sputtering tembaga, sasaran sputtering tantalum, sasaran sputtering titanium, dll. untuk industri semikonduktor. Cip semikonduktor mempunyai keperluan teknikal yang tinggi dan harga yang tinggi untuk sputtering t...Baca lagi -
Aloi skandium aluminium
Untuk menyokong industri komponen penapis piezoelektrik MEMS (pMEMS) berasaskan filem dan frekuensi radio (RF), aloi skandium aluminium yang dikeluarkan oleh Rich Special Material Co., Ltd. digunakan khas untuk pemendapan reaktif filem aluminium nitrida dop skandium. . ke...Baca lagi -
Penggunaan sasaran sputtering ITO
Seperti yang kita sedia maklum, trend pembangunan teknologi bahan sasaran sputtering berkait rapat dengan trend pembangunan teknologi filem nipis dalam industri aplikasi. Apabila teknologi produk atau komponen filem dalam industri aplikasi bertambah baik, teknologi sasaran menjerit...Baca lagi