Bonvenon al niaj retejoj!
Novaĵoj
-
Prepara teknologio kaj apliko de altpura tungstena celo
Pro la alta temperaturstabileco, alta elektrona migra rezisto kaj alta elektrona ellasa koeficiento de obstinaj volframoj kaj volframaj alojoj, altpuraj volframoj kaj volframaj alojaj celoj estas ĉefe uzataj por fabrikado de pordegaj elektrodoj, konektodratado, disvastigo-baro ...Legu pli -
Alta entropia aloja ŝpruccelo
Alta entropia alojo (HEA) estas nova speco de metalalojo evoluigita en la lastaj jaroj. Ĝia konsisto konsistas el kvin aŭ pli da metalaj elementoj. HEA estas subaro de multi-primaraj metalalojoj (MPEA), kiuj estas metalalojoj enhavantaj du aŭ pli da ĉefaj elementoj. Kiel MPEA, HEA estas fama pro sia supe...Legu pli -
Sputtering celo - nikela kroma celo
Celo estas la ŝlosila baza materialo por la preparado de maldikaj filmoj. Nuntempe, la ofte uzataj celaj preparado kaj prilaborado metodoj ĉefe inkluzivas pulvormetalurgio teknologio kaj tradicia aloja fandado teknologio, dum ni adoptas la pli teknika kaj relative nova vakuo fandado...Legu pli -
Ni-Cr-Al-Y ŝpruccelo
Kiel nova tipo de aloja materialo, nikel-kromo-aluminio-ittria alojo estis vaste uzata kiel tegaĵo sur la surfaco de varmaj finaj partoj kiel ekzemple aviado kaj aerospaco, gasturbinaj klingoj de aŭtoj kaj ŝipoj, altpremaj turbinaj ŝeloj, ktp pro sia bona varmorezisto, c...Legu pli -
Enkonduko kaj apliko de Karbono (piroliza grafito) celo
Grafitceloj estas dividitaj en izostatan grafiton kaj pirolizan grafiton. La redaktisto de RSM enkondukos pirolizan grafiton detale. Piroliza grafito estas nova speco de karbona materialo. Ĝi estas piroliza karbono kun alta kristala orientiĝo kiu estas deponita per kemia vaporo sur ...Legu pli -
Tungsten Carbide Sputtering Celoj
Volframkarbido (kemia formulo: WC) estas kemia kunmetaĵo (precize, karbido) enhavanta egalajn partojn de volframo kaj karbonatomoj. En ĝia plej baza formo, volframkarbido estas fajna griza pulvoro, sed ĝi povas esti premita kaj formita en formojn por uzo en industria maŝinaro, tranĉilo...Legu pli -
Enkonduko kaj Apliko de Fero Sputtering Celo
Lastatempe, kliento volis pentri la produkton vin ruĝa. Li demandis teknikiston de RSM pri pura fera ŝpruccelo. Nun ni dividu kun vi iujn scion pri fera ŝprucado. La fera ŝpruccelo estas metala solida celo kunmetita de alta pureca fera metalo. Fero...Legu pli -
Apliko de AZO Sputtering Target
AZO-ŝprucceloj ankaŭ estas referitaj kiel aluminio-dopitaj zinkoksidaj ŝprucceloj. Aluminio-dopita zinkoksido estas travidebla konduka oksido. Tiu oksido estas nesolvebla en akvo sed estas termike stabila. AZO-sputterceloj estas tipe uzataj por maldikfilma demetado. Do kia o...Legu pli -
Produkta metodo de alta entropia alojo
Lastatempe multaj klientoj demandis pri alta entropia alojo. Kio estas la produktadmetodo de alta entropia alojo? Nun ni dividu ĝin kun vi de la redaktisto de RSM. La produktadmetodoj de altaj entropiaj alojoj povas esti dividitaj en tri ĉefajn manierojn: likva miksado, solida miksaĵo...Legu pli -
Apliko de Semiconductor Chip Sputtering Target
Riĉa Speciala Materialo Co., Ltd. povas produkti altpurajn aluminiajn sputerajn celojn, kuprajn sputerajn celojn, tantalajn sputerajn celojn, titanajn sputerajn celojn ktp por la industrio de duonkonduktaĵo. Semikonduktaĵaj blatoj havas altajn teknikajn postulojn kaj altajn prezojn por sputtering t...Legu pli -
Aluminia skandio alojo
Por subteni la industrion de la industrio de komponantoj de filtrilo de radiofrekvenco (RF) bazita en filmo-bazita piezoelektra MEMS (pMEMS), la aluminia skandio-alojo fabrikita de Rich Special Material Co., Ltd. estas speciale uzata por la reaktiva demetado de skandio-dopataj aluminiaj nitruraj filmoj. . La...Legu pli -
Apliko de ITO-ŝprucado-celoj
Kiel ni ĉiuj scias, la teknologia disvolva tendenco de ŝprucado de celmaterialoj estas proksime rilata al la evolua tendenco de maldika filmteknologio en la aplika industrio. Ĉar la teknologio de filmproduktoj aŭ komponantoj en la aplika industrio pliboniĝas, la cela teknologio devas...Legu pli