A közelmúltban sok felhasználó érdeklődött a porlasztásos bevonattechnológia előnyeiről és hátrányairól. Ügyfeleink igényei szerint most az RSM Technológiai Osztály szakértői osztják meg velünk, remélve, hogy megoldják a problémákat. Valószínűleg a következő pontok vannak:
1、 Kiegyensúlyozatlan magnetron porlasztás
Feltételezve, hogy a magnetron porlasztó katód belső és külső mágneses pólusvégén áthaladó mágneses fluxus nem egyenlő, akkor ez egy kiegyensúlyozatlan magnetron porlasztó katód. A hagyományos magnetron porlasztó katód mágneses tere a célfelület közelében koncentrálódik, míg a kiegyensúlyozatlan magnetron porlasztó katód mágneses tere kisugárzik a célból. A közönséges magnetron katód mágneses tere szorosan korlátozza a plazmát a célfelület közelében, míg a hordozó közelében lévő plazma nagyon gyenge, és a hordozót nem bombázzák erős ionok és elektronok. A nem egyensúlyi magnetron katód mágneses tér a plazmát messze kiterjesztheti a célfelülettől, és bemerítheti a hordozót.
2、 Rádiófrekvenciás (RF) porlasztás
A szigetelőfólia felvitelének elve: a szigetelő céltárgy hátoldalán elhelyezett vezetőre negatív potenciál kerül. Az izzító kisülésű plazmában, amikor a pozitív ionvezető lemez felgyorsul, porlasztásra bombázza az előtte lévő szigetelő célpontot. Ez a porlasztás csak 10-7 másodpercig tarthat. Ezt követően a szigetelő céltárgyon felhalmozódott pozitív töltés által képzett pozitív potenciál kiegyenlíti a vezetőlemezen lévő negatív potenciált, így a nagyenergiájú pozitív ionok bombázása a szigetelő céltárgyon megszűnik. Ekkor, ha a tápegység polaritása megfordul, az elektronok bombázzák a szigetelőlapot és 10-9 másodpercen belül semlegesítik a szigetelőlemez pozitív töltését, nullává téve annak potenciálját. Ekkor a tápegység polaritásának felcserélése 10-7 másodpercig tartó porlasztást okozhat.
Az RF porlasztás előnyei: fém és dielektromos céltárgyak is porlasztásosak.
3、 DC magnetron porlasztás
A magnetron porlasztó bevonó berendezés növeli a mágneses teret az egyenáramú porlasztó katód célpontjában, a mágneses tér Lorentz-erejét használja az elektronok megkötésére és az elektromos térben lévő pályájának kiterjesztésére, növeli az elektronok és a gázatomok ütközésének esélyét, növeli a a gázatomok ionizációs sebessége, növeli a célpontot bombázó nagy energiájú ionok számát és csökkenti a nagy energiájú ionok számát a bevont hordozót bombázó elektronok.
A planáris magnetronos porlasztás előnyei:
1. A cél teljesítménysűrűség elérheti a 12w/cm2-t;
2. A célfeszültség elérheti a 600 V-ot;
3. A gáznyomás elérheti a 0,5pa-t.
A planáris magnetronos porlasztás hátrányai: a célpont porlasztócsatornát képez a kifutó területén, a teljes célfelület marása egyenetlen, a céltárgy kihasználtsága mindössze 20-30%.
4、 Köztes frekvenciájú AC magnetron porlasztás
Arra utal, hogy a közepes frekvenciájú AC magnetron porlasztó berendezésekben általában két azonos méretű és alakú célpont van egymás mellett konfigurálva, ezeket gyakran ikercéloknak nevezik. Ezek felfüggesztett telepítések. Általában két célpont áramellátása egyszerre történik. A közepes frekvenciájú AC magnetron reaktív porlasztás során a két célpont egymás után anódként és katódként, illetve anódkatódként működik ugyanabban a félciklusban. Amikor a célpont a negatív félciklus potenciálon van, a célfelületet pozitív ionok bombázzák és porlasztják; A pozitív félciklusban a plazma elektronjai felgyorsulnak a célfelületre, hogy semlegesítsék a célfelület szigetelő felületén felgyülemlett pozitív töltést, ami nemcsak elnyomja a célfelület gyulladását, hanem kiküszöböli a „célfelület” jelenségét is. anód eltűnése”.
A közepes frekvenciájú kettős célú reaktív porlasztás előnyei a következők:
(1) Magas lerakódási arány. Szilícium céltárgyak esetében a közepes frekvenciájú reaktív porlasztás lerakódási sebessége 10-szerese az egyenáramú reaktív porlasztásénak;
(2) A porlasztási folyamat stabilizálható a beállított működési ponton;
(3) A „gyulladás” jelensége megszűnik. Az elkészített szigetelőfólia hibasűrűsége több nagyságrenddel kisebb, mint az egyenáramú reaktív porlasztásos módszernél;
(4) A magasabb szubsztrátum-hőmérséklet előnyös a film minőségének és adhéziójának javításához;
(5) Ha a tápegység könnyebben illeszkedik a célhoz, mint az RF tápegység.
5、 Reaktív magnetron porlasztás
A porlasztási folyamat során a reakciógázt betáplálják, hogy reakcióba lépjen a porlasztott részecskékkel, így összetett filmek képződnek. Biztosíthat reaktív gázt, amely egyidejűleg reagál a porlasztó vegyület céljával, és reaktív gázt is biztosíthat, hogy egyidejűleg reagáljon a porlasztó fém vagy ötvözet célpontjával, hogy adott kémiai arányú összetett filmeket készítsen.
A reaktív magnetron porlasztó keverékfilmek előnyei:
(1) A felhasznált célanyagok és reakciógázok oxigén, nitrogén, szénhidrogének stb., amelyekből általában könnyen előállíthatók nagy tisztaságú termékek, ami elősegíti a nagy tisztaságú összetett filmek előállítását;
(2) Az eljárási paraméterek beállításával vegyi vagy nem kémiai vegyületfilmek készíthetők, így a filmek jellemzői beállíthatók;
(3) Az aljzat hőmérséklete nem magas, és kevés korlátozás vonatkozik az aljzatra;
(4) Alkalmas nagy felületű egységes bevonat készítésére, és ipari termelést valósít meg.
A reaktív magnetronos porlasztás során könnyen előfordulhat a vegyületporlasztás instabilitása, elsősorban:
(1) Nehéz összetett célpontokat előállítani;
(2) A célmérgezés és a porlasztási folyamat instabilitása által okozott ívkiütés (ívkisülés) jelensége;
(3) Alacsony porlasztásos lerakódási sebesség;
(4) A film hibasűrűsége nagy.
Feladás időpontja: 2022. július 21