මෑත වසරවලදී, ඒකාබද්ධ පරිපථ (IC) තාක්ෂණයේ ප්රගතියත් සමඟ, ඒකාබද්ධ පරිපථවල අදාළ යෙදුම් වේගයෙන් සංවර්ධනය වී ඇත. Ultra high purity aluminium alloy sputtering target, integrated circuit metal interconnects නිෂ්පාදනය සඳහා ආධාරක ද්රව්යයක් ලෙස, මෑත කාලීන දේශීය පර්යේෂණවල උණුසුම් මාතෘකාවක් බවට පත්ව ඇත. RSM හි සංස්කාරකය අපට ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහ ඉසින ඉලක්කයේ ලක්ෂණ පෙන්වයි.
මැග්නට්රෝන ඉසින ඉලක්කයේ ඉසින කාර්යක්ෂමතාව තවදුරටත් වැඩිදියුණු කිරීම සහ තැන්පත් කළ චිත්රපටවල ගුණාත්මක භාවය සහතික කිරීම සඳහා, අති-ඉහළ සංශුද්ධතාවයෙන් යුත් ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහ ඉසිලීමේ ඉලක්කයේ සංයුතිය, ක්ෂුද්ර ව්යුහය සහ ධාන්ය දිශානතිය සඳහා නිශ්චිත අවශ්යතා ඇති බව පරීක්ෂණ විශාල සංඛ්යාවක් පෙන්නුම් කරයි.
ඉලක්කයේ ධාන්ය ප්රමාණය සහ ධාන්ය දිශානතිය IC චිත්රපටවල සූදානම සහ ගුණාංග කෙරෙහි විශාල බලපෑමක් ඇති කරයි. ප්රතිඵල පෙන්නුම් කරන්නේ ධාන්ය ප්රමාණය වැඩි වීමත් සමඟ තැන්පත් වීමේ අනුපාතය අඩු වන බවයි; එකම සංයුතිය සහිත ඉසින ඉලක්කය සඳහා, කුඩා ධාන්ය ප්රමාණය සහිත ඉලක්කයේ ඉසින වේගය විශාල ධාන්ය ප්රමාණයේ ඉලක්කයට වඩා වේගවත් වේ; ඉලක්කයේ ධාන්ය ප්රමාණය වඩාත් ඒකාකාරී වන අතර, තැන්පත් කළ පටලවල ඝනකම ව්යාප්තිය වඩාත් ඒකාකාර වේ.
එකම ඉසින උපකරණ සහ ක්රියාවලි පරාමිතීන් යටතේ, පරමාණුක ඝනත්වය වැඩිවීමත් සමඟ Al Cu මිශ්ර ලෝහ ඉලක්කයේ ඉසින වේගය වැඩි වේ, නමුත් එය සාමාන්යයෙන් පරාසයක ස්ථායී වේ. ධාන්ය ප්රමාණය වෙනස් වීමත් සමඟ පරමාණුක ඝනත්වය වෙනස් වීම නිසා ඉසින වේගය මත ධාන්ය ප්රමාණයේ බලපෑම; Al Cu මිශ්ර ලෝහ ඉලක්කයේ ධාන්ය දිශානතිය මගින් තැන්පත් වීමේ අනුපාතය ප්රධාන වශයෙන් බලපායි. (200) ස්ඵටික තලවල අනුපාතය සහතික කිරීමේ පදනම මත, (111), (220) සහ (311) ස්ඵටික තලවල අනුපාතය වැඩිවීම තැන්පත් වීමේ අනුපාතය වැඩි කරයි.
අති-ඉහළ සංශුද්ධතාවයෙන් යුත් ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහ ඉලක්කවල ධාන්ය ප්රමාණය සහ ධාන්ය දිශානතිය ප්රධාන වශයෙන් ගැලපීම සහ පාලනය කරනු ලබන්නේ ingot සමජාතීයකරණය, උණුසුම් වැඩ කිරීම සහ ප්රතිස්ඵටිකීකරණ ඇනීල් කිරීම මගිනි. වේෆර් ප්රමාණය 20.32cm (8in) සහ 30.48cm (in 12in) දක්වා වර්ධනය වීමත් සමඟ ඉලක්ක ප්රමාණය ද වැඩි වෙමින් පවතින අතර, එය අතිශය ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහ ඉසින ඉලක්ක සඳහා ඉහළ අවශ්යතා ඉදිරිපත් කරයි. චිත්රපටයේ ගුණාත්මකභාවය සහ අස්වැන්න සහතික කිරීම සඳහා, ඉලක්ක ක්ෂුද්ර ව්යුහය ඒකාකාර කිරීමට ඉලක්ක සැකසුම් පරාමිතීන් දැඩි ලෙස පාලනය කළ යුතු අතර ධාන්ය දිශානතිය ශක්තිමත් (200) සහ (220) තල වයනය තිබිය යුතුය.
පසු කාලය: ජූනි-30-2022