Ongi etorri gure webguneetara!
Berriak
-
Prestatzeko teknologia eta purutasun handiko wolframio-helburuaren aplikazioa
Tenperatura handiko egonkortasuna, elektroien migrazio erresistentzia handia eta wolframio erregogorren eta wolframio-aleazioen elektroi-igorpen koefiziente handia dela eta, puritate handiko wolframio eta tungsteno aleazio helburuak ate elektrodoak, konexio kableatuak, difusio-hesiak ... fabrikatzeko erabiltzen dira batez ere.Irakurri gehiago -
Entropia handiko aleazioen sputtering helburua
Entropia handiko aleazioa (HEA) azken urteotan garatutako metal aleazio mota berri bat da. Bere osaera bost metal elementuz edo gehiagoz osatuta dago. HEA metal primario anitzeko aleazioen (MPEA) azpimultzo bat da, bi elementu nagusi edo gehiago dituzten metal aleazioak dira. MPEA bezala, HEA famatua da bere...Irakurri gehiago -
Sputtering helburua - nikela kromo helburua
Target film meheak prestatzeko oinarrizko materiala da. Gaur egun, erabili ohi diren helburuak prestatzeko eta prozesatzeko metodoek hauts-metalurgia teknologia eta aleazio-galdaketa-teknologia tradizionala barne hartzen dituzte, baina hutsean galdaketa teknikoagoak eta nahiko berriagoak hartzen ditugu...Irakurri gehiago -
Ni-Cr-Al-Y sputtering helburua
Aleazio-material mota berri gisa, nikel-kromo-aluminio-itrio aleazioa oso erabilia izan da estaldura-material gisa, hala nola, hegazkintza eta aeroespaziala, automobilen eta itsasontzien gas-turbinaren palan, presio handiko turbinen maskorretan, estaldura-material gisa. eta abar beroarekiko erresistentzia ona dela eta, c...Irakurri gehiago -
Karbono (grafito pirolitikoa) helburuaren sarrera eta aplikazioa
Grafitoaren helburuak grafito isostatikoa eta grafito pirolitikoan banatzen dira. RSM-ren editoreak grafito pirolitikoa aurkeztuko du xehetasunez. Grafito pirolitikoa karbono-material mota berri bat da. Orientazio kristalino handiko karbono pirolitikoa da, lurrun kimikoen bidez jalkitzen dena...Irakurri gehiago -
Tungsteno Karburoa Sputtering Helburuak
Wolframio karburoa (formula kimikoa: WC) wolframio eta karbono atomoen zati berdinak dituen konposatu kimiko bat da (zehazki, karburoa). Bere formarik oinarrizkoenean, wolframio-karburoa hauts gris fin bat da, baina prentsatu eta formatu daiteke makineria industrialetan, ebaketa-erremintan... erabiltzeko.Irakurri gehiago -
Burdina Sputtering Helburuaren Sarrera eta Aplikazioa
Duela gutxi, bezeroak produktua ardo gorriz margotu nahi zuen. RSMko teknikariari burdin hutsezko sputtering helburuari buruz galdetu zion. Orain, parteka ditzagun zurekin burdina-sputtering helburuari buruzko ezagutza batzuk. Burdina sputtering helburua purutasun handiko burdin metalez osatutako metal solido bat da. Plantxa...Irakurri gehiago -
AZO Sputtering Helburuaren aplikazioa
AZO sputtering helburuak aluminioz dopatutako zink oxido sputtering helburu gisa ere aipatzen dira. Aluminioz dopatutako zink oxidoa oxido eroale gardena da. Oxido hau uretan disolbaezina da baina termikoki egonkorra da. AZO sputtering helburuak normalean film mehe deposiziorako erabiltzen dira. Beraz, zer motatako...Irakurri gehiago -
Entropia handiko aleazioen fabrikazio-metodoa
Duela gutxi, bezero askok entropia handiko aleazioei buruz galdetu dute. Zein da entropia handiko aleazioen fabrikazio-metodoa? Orain parteka dezagun zurekin RSM editoreak. Entropia handiko aleazioen fabrikazio metodoak hiru modu nagusitan bana daitezke: nahasketa likidoa, nahasketa solidoa...Irakurri gehiago -
Txip Erdieroaleen Sputtering Helburuaren aplikazioa
Rich Special Material Co., Ltd.-k purutasun handiko aluminiozko sputtering helburuak, kobrezko sputtering helburuak, tantalioa sputtering helburuak, titaniozko sputtering helburuak, etab. erdieroaleen industriarako. Txip erdieroaleek baldintza tekniko handiak dituzte eta prezio altuak dituzte sputtering...Irakurri gehiago -
Aluminiozko eskandio aleazioa
Filmean oinarritutako MEMS piezoelektrikoen (pMEMS) sentsorearen eta irrati-maiztasuneko (RF) iragazkien osagaien industriari laguntzeko, Rich Special Material Co., Ltd.-k fabrikatutako aluminiozko eskandio aleazioa bereziki erabiltzen da eskandiozko dopatutako aluminio nitrurozko filmen deposizio erreaktiboa egiteko. . Th...Irakurri gehiago -
ITO sputtering helburuak aplikatzea
Denok dakigunez, sputtering helburuko materialen garapen teknologikoa oso lotuta dago aplikazioen industrian film meheen teknologiaren garapen joerarekin. Aplikazioen industrian film produktuen edo osagaien teknologia hobetzen doan heinean, xede-teknologiak behar du...Irakurri gehiago