Benvinguts als nostres llocs web!
Notícies
-
Tecnologia de preparació i aplicació d'objectius de tungstè d'alta puresa
A causa de l'estabilitat a alta temperatura, l'alta resistència a la migració d'electrons i l'alt coeficient d'emissió d'electrons dels aliatges de tungstè i tungstè refractaris, els objectius de tungstè i aliatges de tungstè d'alta puresa s'utilitzen principalment per a la fabricació d'elèctrodes de porta, cablejat de connexió, barrera de difusió...Llegeix més -
Objectiu de pulverització d'aliatges d'alta entropia
L'aliatge d'alta entropia (HEA) és un nou tipus d'aliatge metàl·lic desenvolupat en els últims anys. La seva composició està formada per cinc o més elements metàl·lics. HEA és un subconjunt d'aliatges metàl·lics multiprimaris (MPEA), que són aliatges metàl·lics que contenen dos o més elements principals. Igual que MPEA, HEA és famós pel seu supe...Llegeix més -
Objectiu de sputtering: diana de níquel-crom
Target és el material bàsic clau per a la preparació de pel·lícules primes. Actualment, els mètodes de preparació i processament d'objectius d'ús habitual inclouen principalment la tecnologia de la metal·lúrgia de pols i la tecnologia tradicional de fosa d'aliatges, mentre que adoptem la fosa al buit més tècnica i relativament nova...Llegeix més -
Objectiu de pulverització de Ni-Cr-Al-Y
Com a nou tipus de material d'aliatge, l'aliatge de níquel-crom-alumini-ittri s'ha utilitzat àmpliament com a material de recobriment a la superfície de peces d'extrem calent com ara l'aviació i l'aeroespacial, les pales de turbines de gas d'automòbils i vaixells, carcassa de turbines d'alta pressió, etc. per la seva bona resistència a la calor, c...Llegeix més -
Introducció i aplicació de l'objectiu de carboni (grafit pirolític).
Els objectius de grafit es divideixen en grafit isostàtic i grafit pirolític. L'editor de RSM introduirà el grafit pirolític en detall. El grafit pirolític és un nou tipus de material de carboni. És un carboni pirolític amb alta orientació cristal·lina que es diposita per vapor químic a...Llegeix més -
Objectius de pulverització de carbur de tungstè
El carbur de tungstè (fórmula química: WC) és un compost químic (precisament, un carbur) que conté parts iguals de tungstè i àtoms de carboni. En la seva forma més bàsica, el carbur de tungstè és una pols fina de color gris, però es pot premsar i donar formes per utilitzar-les en maquinària industrial, eines de tall...Llegeix més -
Introducció i aplicació de la diana de la catòdica de ferro
Recentment, el client va voler pintar el producte de color vermell vi. Va preguntar al tècnic de RSM sobre l'objectiu de pols de ferro pur. Ara compartim amb vosaltres alguns coneixements sobre l'objectiu de la polverització de ferro. L'objectiu de sputtering de ferro és un objectiu metàl·lic sòlid compost de metall de ferro d'alta puresa. Ferro...Llegeix més -
Aplicació d'AZO Sputtering Target
Els objectius de sputtering AZO també es coneixen com a objectius de sputtering d'òxid de zinc dopats amb alumini. L'òxid de zinc dopat amb alumini és un òxid conductor transparent. Aquest òxid és insoluble en aigua però és tèrmicament estable. Els objectius de pulverització AZO s'utilitzen normalment per a la deposició de pel·lícula fina. Aleshores, quin tipus de...Llegeix més -
Mètode de fabricació d'aliatges d'alta entropia
Recentment, molts clients han preguntat sobre l'aliatge d'alta entropia. Quin és el mètode de fabricació de l'aliatge d'alta entropia? Ara compartim-ho amb vosaltres per l'editor de RSM. Els mètodes de fabricació d'aliatges d'alta entropia es poden dividir en tres maneres principals: mescla líquida, mescla sòlida...Llegeix més -
Aplicació de Semiconductor Chip Sputtering Target
Rich Special Material Co., Ltd. pot produir objectius de sputtering d'alumini d'alta puresa, objectius de sputtering de coure, objectius de sputtering de tàntal, objectius de sputtering de titani, etc. per a la indústria dels semiconductors. Els xips de semiconductors tenen requisits tècnics elevats i preus elevats per a la catòdica...Llegeix més -
Aliatge d'alumini escandi
Per donar suport al sensor MEMS piezoelèctric (pMEMS) basat en pel·lícules i a la indústria dels components del filtre de radiofreqüència (RF), l'aliatge d'alumini escandi fabricat per Rich Special Material Co., Ltd. s'utilitza especialment per a la deposició reactiva de pel·lícules de nitrur d'alumini dopat amb escandi. . El...Llegeix més -
Aplicació d'objectius de sputtering ITO
Com tots sabem, la tendència de desenvolupament tecnològic dels materials objectiu de pulverització està estretament relacionada amb la tendència de desenvolupament de la tecnologia de pel·lícula fina a la indústria d'aplicacions. A mesura que millora la tecnologia dels productes o components de pel·lícules a la indústria d'aplicacions, la tecnologia objectiu hauria de...Llegeix més